PHOTODERMATOLOGY PHOTOIMMUNOLOGY & PHOTOMEDICINE

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: 創(chuàng)刊時間：1990; 周期：Bimonthly; ISSN：0905-4383; 影響因子：2.328; 是否開源：No; 年文章量：30; 錄用比：較易; 學(xué)科方向：皮膚病學(xué); 研究方向：醫(yī)學(xué); 通訊地址：WILEY-BLACKWELL PUBLISHING, INC, COMMERCE PLACE, 350 MAIN ST, MALDEN, USA, MA, 02148; 官網(wǎng)地址：http://onlinelibrary.wiley.com/journal/10.1111/(ISSN)1600-0781; 投稿地址：http://mc.manuscriptcentral.com/photo; 網(wǎng)友分享經(jīng)驗：較慢,6-12周

PHOTODERMATOLOGY PHOTOIMMUNOLOGY & PHOTOMEDICINE雜志中文介紹

該雜志是一個關(guān)于電磁輻射(紫外可見和紅外)通過皮膚直接和遠距離影響的新信息的論壇。編輯委員會的部門反映了具體的興趣領(lǐng)域:老化致癌、免疫學(xué)儀器和光學(xué)激光、光動力療法、光敏色素沉著和治療。

PHOTODERMATOLOGY PHOTOIMMUNOLOGY & PHOTOMEDICINE雜志英文介紹

The journal is a forum for new information about the direct and distant effects of electromagnetic radiation (ultraviolet visible and infrared) mediated through skin. The divisions of the editorial board reflect areas of specific interest: aging carcinogenesis immunology instrumentation and optics lasers photodynamic therapy photosensitivity pigmentation and therapy.